5nm光刻机的原理

关注：877 发布时间：2022-05-11 10:19:01

导语本文整理了5nm光刻机的原理经验知识，帮助您全面了解，小白也能成为高手，跟随小编一起来看一看吧！

1.光刻机可以分为芯片生产、封装和led制造。按光源和显影前后可分为紫外光源(uv)、深紫外光源(duv)、极紫外光源(euv)、光源的波长光刻工艺。光刻机可分为接触光刻、直写光刻和投影光刻。

2.原理：接近或接触光刻通过无限接近复制掩模板上的图案；直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工件台或透镜扫描实现任意图形加工。投影光刻因其效率高、无损伤等优点，是集成电路的主流光刻技术。

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